※產品名稱:旋轉陰極濺射靶材
※產品類別:材料
※產品功能:替代現有的平面陰極靶材,提升鍍膜效率及減少原材料的損耗;
※應用領域:適用于LCD、OLED、半導體行業磁控濺射/濺鍍工藝;
※產品特征:
1.材料最大利用率: 超過70%
2.靶面再沉積區域小
3.無打弧現象
4.無灰塵顆粒
5.維護周期長
※產品名稱:旋轉陰極濺射靶材
※產品類別:材料
※產品功能:替代現有的平面陰極靶材,提升鍍膜效率及減少原材料的損耗;
※應用領域:適用于LCD、OLED、半導體行業磁控濺射/濺鍍工藝;
※產品特征:
1.材料最大利用率: 超過70%
2.靶面再沉積區域小
3.無打弧現象
4.無灰塵顆粒
5.維護周期長
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